Technik bietet noch Spielraum – Nanotubes als Hoffnungsträger
Die Chip-Meilensteine bis 2007 sind gesetzt
Leinfelden (fm/rr) – Mit den ersten 65-Nanometer-SRAM-Prototypen zeigt Intel, dass die nächsten zwei Innova-tionsstufen im Chipgeschäft bereits unter Dach und Fach sind. Doch immer höhere Einsätze sind nötig, um den Performance- und Produktivitätsgewinn abzuschöpfen.
Die jüngsten Roadmaps des Prozessormarktführers nähren die Zuversicht, dass die gewohnten Innovationszyklen – alle zwei Jahre ein neuer Fertigungsprozess – auch für die kommende Dekade Gültigkeit haben. Dass dies immer gewaltigere Investitionen erfordert, wird schon an den Dimen-sionen der Intel-Entwicklungs-Fab in Hillsboro mit einer Reinraumfläche von über 16 000 Quadratmetern deutlich. Was der Chipriese dank seines Volumenvorteils schafft, müssen Konkurrenten wie IBM und AMD über Kooperationen und Abschöpfung staatlicher Fördermittel und Bürgschaften bewerkstelligen – siehe AMDs 2,4 Milliarden Dollar teure Prozessorfabrik in Dresden.
Dabei reizen die Hersteller die existierenden Chip- und Lithografietechniken immer weiter aus. Erst mit der 45-Nanometer-Generation 2007 plant Intel den Umstieg auf die kurzwelligere Extrem-Ultraviolett-Belichtung und den Einsatz von energieeffizienten High-K-Isolatormaterialien. Chipstrukturen von unter 30 Nanometern will Infineon-Manager Karl Joachim Ebeling mittels dreidimensionaler Feldeffekttransistoren herstellen. Und Forscher von NEC erzeugen mit Elektronenstrahl-Lithografie acht Nanometer feine Strukturen in Polysilizium.
